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加圧注入の英語
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英訳・英語 pressure injection
「加圧注入」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 702件
薬液加圧注入装置例文帳に追加
LIQUID MEDICINE PRESSURE INJECTOR - 特許庁
加圧流体注入ノズル例文帳に追加
PRESSURIZED FLUID INJECTION NOZZLE - 特許庁
定圧加圧の液体注入システム例文帳に追加
LIQUID INJECTION SYSTEM UNDER CONSTANT PRESSURE PRESSURIZATION - 特許庁
加圧流体注入手段は、それぞれの注入口から加圧流体を注入する。例文帳に追加
The pressurized fluid injecting means injects the pressurized fluid through the respective injection ports. - 特許庁
線状の固体注入物質または液体注入物質をガス圧で加速しプラズマ2に注入する。例文帳に追加
Linear solid injection material or liquid injection material is accelerated by gas pressure and injected into a plasma 2. - 特許庁
歯科用水道水の塩素注入装置および塩素注入加圧供給装置例文帳に追加
CHLORINATOR FOR DENTAL CITY WATER AND CHLORINE DOSING AND PRESSURE SUPPLYING DEVICE - 特許庁
加圧流体注入手段は、キャビティ27に注入口35、36を介して加圧流体を注入する。例文帳に追加
The pressurized fluid injection means injects the pressurized fluid into the cavity 27 through the injection ports 35 and 36. - 特許庁
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Weblio専門用語対訳辞書での「加圧注入」の英訳 |
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加圧注入
「加圧注入」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 702件
加圧流体注入手段は注入口を介してキャビティで成形される成形品の非意匠面に向かって加圧流体を注入する。例文帳に追加
The pressurized fluid injecting means injects the pressurized fluid, through the injection port, to the non-design surface of the molded product molded in the cavity. - 特許庁
注入剤を構造体内に一定圧力で加圧注入することにより、注入剤を能率よく広範囲かつ均一に注入することができ、注入量の制御も容易に行うことができる定圧注入工法および定圧注入装置を提供する。例文帳に追加
To provide a constant pressure grouting method and constant pressure grouting apparatus capable of efficiently, widely, and uniformly injecting a grout into a structure and controlling the injection quantity with ease by injecting the grout with a constant pressure into a structure. - 特許庁
次に,低加速電圧でイオン注入を行う。例文帳に追加
Next, ion implantation is performed at a low acceleration voltage. - 特許庁
次に,高加速電圧でイオン注入を行う。例文帳に追加
Next, ion implantation is performed with a high acceleration voltage. - 特許庁
空気注入口付き炭酸飲料容器用加圧キャップ例文帳に追加
PRESSURIZING CAP FOR CARBONATED BEVERAGE CONTAINER WITH AIR INJECTION PORT - 特許庁
中空射出成形装置の加圧流体注入部構造例文帳に追加
PRESSURIZING FLUID INJECTION PART STRUCTURE OF HOLLOW INJECTION MOLDING DEVICE - 特許庁
加圧装置および液晶注入装置例文帳に追加
PRESSURE DEVICE AND LIQUID CRYSTAL INJECTION DEVICE - 特許庁
加速電圧3MV、注入量1.0×10^15/cm^2の条件でイオン注入を行った。例文帳に追加
The ion implantation is performed under conditions of 3MV acceleration voltage and 1.0×10^15/cm^2 implantation rate. - 特許庁
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